TEL MARK8

设备类型：全自动涂胶显影系统（Coater/Developer）
适用晶圆尺寸：200mm（8英寸）和 300mm（12英寸）
工艺兼容性：i-line (365nm), KrF (248nm), ArF (193nm)
产能 (Throughput) 约 150~200 wafers/hour（取决于工艺）
控制精度：胶厚均匀性 ≤±1nm（高级配置）

技术支持

支持售后维护保养，故障解决

更多服务

拆移机，产线升级，其他定制化升级